一台光刻机一天能产多少芯片

光刻机又叫掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。光刻也被称为光学平版刻法或紫外光刻，是一种在薄膜或基板（也被称为“晶圆”）上对零件图形化的精密加工工艺。简单来说，光刻机就是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1的，也有4:1的。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。

那么一台光刻机一天能产多少芯片呢?接下来小编就给科普一下关于光刻机产量的相关知识，希望能对您有所帮助！

在光刻机的领域，一项关键指标被称为WPH，即一小时单位产能。现代先进的DUV光刻机已经能够达到每小时处理200片以上。然而，光刻机数量有限，一家半导体工厂通常只有大约10多台，这些光刻机的性能也不尽相同。举例来说，一个拥有3万片产能的28纳米工艺工厂可能只有2台最先进的光刻机，其他光刻机则采用不同的型号。

但是，光刻机的最大WPH只是影响月产能的一部分因素。28纳米工艺需要经历多次光刻步骤，每片晶圆通常需要反复曝光13到15次。因此，产能的瓶颈并不只是光刻机，还包括其他制程设备的性能和数量。

关于光刻机是否够本，需要从产业寿命周期的角度来看。光刻机的前道设备，尽管可能看似利润有限，但在长期发展中，这些设备成为了半导体产业的关键环节。在中国这样庞大的国内市场中，一个产业集群具有巨大的消化能力。因此，前道光刻机的成本可以逐渐被消化，而不是成为制约产业发展的因素。

然而，对于前道光刻机制造装备，特别是高端前道光刻机，中国目前仍然存在研发和制造上的短板。全球最强大的光刻机制造商ASML的市场份额在全球达到了80%，这反映出了中国在前道光刻机领域的不足。然而，光刻机只是半导体生产线的一部分，而且中国在其他制程设备方面已经有了一定的实力。

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